技術ホワイトペーパー
マイクロバブル技術による半導体洗浄革新
技術概要
資源開発研究所は、マイクロバブル技術を用いた革新的な半導体洗浄ソリューションを開発しています。1当社の技術は、従来の洗浄方法では困難だった微細な汚染物質の除去を可能にし、半導体製造プロセスにおける歩留まり向上と環境負荷低減を実現します。
革新的な技術特長
- メタルフリーマイクロバブル発生装置の開発に成功
- 半導体洗浄に最適化されたマイクロバブル生成技術
- 従来比50%以上の洗浄効率向上
- 化学薬品使用量の大幅削減（最大70%）
知的財産権
当社はマイクロバブル技術に関して多数の特許を出願・取得しており、強固な知的財産ポートフォリオを構築しています。
- 半導体洗浄応用特許（日本・中国・アメリカ・韓国出願）1
- マイクロバブル発生装置の基本特許
- 洗浄プロセス制御に関する特許
- 環境負荷低減技術に関する特許
技術実績
特許出願数
20+
マイクロバブル関連特許
洗浄効率
50%↑
従来比向上率
化学薬品削減
70%↓
使用量削減率
応用分野
- 半導体製造 – ウェハー洗浄、装置部品洗浄
- 電子部品製造 – プリント基板洗浄、精密部品洗浄
- 環境技術 – 排水処理、環境浄化
- 医療機器 – 精密洗浄、滅菌処理
今後の展開
当社は現在、以下の分野での技術展開を推進しています：
- AIを活用した洗浄プロセス最適化
- 再生可能エネルギーとの連携技術
- 国際標準規格への対応
- 新興市場への技術展開
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本資料は技術情報提供を目的としており、投資勧誘を目的とするものではありません。